另外三种型号光刻机限制对华销售
荷兰政府周三表示，正在准备限制某些芯片制造机器的出口，以维护国家安全。彭博社3月10日报导，据知情人士透露，荷兰出来新限制将影响阿斯麦光刻机的另外三种型号的对华销售。
因信息不便公开而要求匿名的知情人士称，本周宣布的出口限制将阻止TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i型号光刻机的出货，这些型号是浸没式深紫外光刻机。
ASML周三表示，虽然还没有关于荷兰政府公开声明之外的新出口管制信息，但该公司对政府言辞的解读是，从TWINSCAN NXT:2000i开始任何涉及“关键”技术的机器可能都在被禁止之列。
ASML已被禁止向中国公司出售公司最尖端的技术，即极紫外光刻技术（EUV）。
ASML的光刻系统每台成本高达1.6亿欧元（1.7亿美元），用于创建计算机芯片的电路。
浸没式机器与其它技术配合使用时，可用于生产先进的半导体，这些半导体可用于从军事硬件到智能手机的各种领域。
去年10月，拜登政府祭出史上最严厉的出口管制新规，除了要求某些芯片设备和技术获得出口许可证外，还限制美国公民在中国和其它可能对国家安全构成威胁的国家／地区工作，以及还有一些规定，限制特定类型产品的技术支持或销售。
美国寻求阻止利用先进的芯片技术和产品发展军事力量和监控力量，对印太和全球其它地区造成威胁。
为了使出口管制行之有效，美国一直积极游说荷兰和日本政府扩大对半导体设备的出口限制。
美国拥有三大芯片设备制造商：应用材料、KLA Corp.和Lam Research Corp.，与日本的东京电子有限公司和荷兰的阿斯麦一起，在全球半导体行业中占据主导地位。
如果不能获得这些公司最好的芯片设备，就不可能建立能够制造最先进芯片的工厂。
彭博社周五报导，在对制造半导体至关重要的价值数百万美元的机器中，目前约有17种设备需要出口许可证，中国客户若想购买这些设备，需要获得许可证。据知情人士称，如果包括荷兰和日本施加的限制，被要求出口许可证的设备数量将翻一番。
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